打造下一个光刻机巨头？荷兰77亿研发纳米技术

现今的硼基矽CPU由于摩尔定律限制，在进到10nm之后愈来愈难以生产，预计2nm到1nm节点就有可能面临不会生产的问题，矽行业也在积极开发新系统设计，比如硼带电粒子CPU系统设计，而asml公司所在的德国就大举入股77亿元合作开发硼带电粒子系统设计。

在硼基CPU时期，ASML公司终究成为矽行业中的帝皇，尤其是EUV光刻机实无一份，5nm及以下节点都要缺少ASML的EUV光刻机，过去售价就要10亿两台了，再将来的高NA光刻机售价要涨到19亿以上了。

如果将来硼带电粒子CPU快速取代硼基CPU，那ASML公司显然会一落千丈落后的话语权，这也是为什么德国巨资入股硼带电粒子系统设计比如说的极其重要，想下一个ASML还是掌控在他们还给。

根据他们的入股方案，总入股为11亿总成本，约合77.3亿，其中4.71亿总成本的入股来自德国政府，接下来是德国的所中学大学Eindhoven理工大及Twente大学，资金则会由德国基金机构Delta Photon 负责管理。

据悉，跟过去的硼基CPU相比，硼带电粒子CPU是基于硼和硼基衬底材料（如 SiGe／Si、SOI 等），利用原先 CMOS 工艺进行光器件开发和集成的新一代系统设计，相辅相成了集成电路系统设计的的大大规模、的大高精度生产的特点和带电粒子系统设计的大高速率、的大低功耗的劣势，被看来是摩尔定律回退之后的实无创系统设计。

现今主要的矽超级大国都在积极合作开发硼带电粒子系统设计，其中Intel、IBM等公司在这个领域已经取得重要进展，全国性也在大力发展硼带电粒子系统设计，过去就是看这场赛跑中，谁能抢先了。